«FarDU ilmiy xabarlari» 31-том 4-нөмір (2025)
РЕНТГЕНОФАЗОВЫЙ И АСМ-АНАЛИЗ ПЛЕНОК Mn₄Si₇, ОСАЖДЕННЫХ ИОННО-ПЛАЗМЕННЫМ МЕТОДОМ
Normuradov, Muradulla, Довранов, Кувондик, Акбаров, Исакжон, Туйчиев, Нурбек, Юлдошев, Озодбек, Хамдамова, Гулжахон
Аңдатпа
<p><em>В данной работе поликристаллические тонкие пленки марганцевого силицида (</em><em>Mn</em><em>₄</em><em>Si</em><em>₇</em><em>) были синтезированы на подложках </em><em>Si</em><em>(111) методом ионно-плазменного магнетронного распыления. Исследованы структурные, морфологические и термоэлектрические свойства полученных пленок. Морфология поверхности анализировалась с использованием атомно-силовой микроскопии (АСМ), которая выявила равномерно распределённые нанозерна и характерную шероховатость поверхности. Рентгенофазовый анализ подтвердил формирование тетрагональной кристаллической структуры с доминирующими пиками при определённых углах. Термическая обработка в диапазоне 300–750 </em><em>K</em><em> привела к образованию дефектов, которые при более высоких температурах трансформировались в однородные тонкие слои. Метод Ритвельда использовался для уточнения кристаллической структуры и определения индексов Миллера.</em></p>
тонкие пленки Mn₄Si₇; магнетронное распыление; ионно-плазменное осаждение; рентгенофазовый анализ; уточнение по Ритвельду.тонкие пленки Mn₄Si₇; магнетронное распыление; ионно-плазменное осаждение; рентгенофазовый анализ; уточнение по Ритвельду.
Метадеректер дереккөзі: журналдың OAI-PMH архиві · Sindex толық мәтінді сақтамайды, дереккөзге сілтеме береді.