Ilim ha’m ja’miyet № 2-1 (2025) · с. 46-47
ИЗМЕНЕНИЕ РЕЛАКСАЦИОННЫХ ПРОЦЕССОВ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ КРЕМНИЯ ПОСЛЕ ВОЗДЕЙСТВИЯ АТОМА ЭРБИЯ
Шарибаев, М.Б., Каландарова, Ш.К.
Аннотация
The article states that in the results of growing erbium-doped epitaxial silicon layers using two different growth modes: conventional molecular beam epitaxy (MBE) and solid-phase epitaxy (SPE) are presented. It has been shown that an erbium-doped silicon layer, when deposited by SPE on a cold substrate and after annealing, exhibits a more intense photoluminescence band at a wavelength of 1.54µm.
эпитаксиал пленкаларлегирлашфотолюминесценцияинтенсивликэпитаксиальные пленкилегированиефотолюминесценцияинтенсивностьepitaxial filmsdoping
Источник метаданных: OAI-PMH архив журнала · Sindex не хранит полный текст, а даёт ссылку на источник.